低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的概述?
低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)?
低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的適用范圍?
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一.低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的概述?
答:低溫等離子除臭+UV光解一體機(jī)分為紫外線光解和等離子分解兩個(gè)區(qū),惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū),經(jīng)多級(jí)凈化后達(dá)標(biāo)排出。
UV紫外線光解區(qū):利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體,如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧。因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡因此需與氧分子結(jié)合,從而產(chǎn)生臭氧。眾所周知,臭氧對(duì)有機(jī)物擁有極強(qiáng)的氧化功效,對(duì)惡臭氣體及其它感激性異味有立竿見影的清除效果。有機(jī)惡嗅氣體經(jīng)過本區(qū)后,凈化運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再經(jīng)過臭氧氧化反應(yīng)。
低溫等離子分解區(qū):采用了獨(dú)特的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計(jì),無需再生處理原料,無需專人負(fù)責(zé),不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電安裝,使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基,在毫秒級(jí)的時(shí)間內(nèi),瞬間對(duì)經(jīng)過UV光解區(qū)進(jìn)入等離子分解區(qū)的氣身體殘留的有害分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng),將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性,連續(xù)地對(duì)等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng),使有害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化后終達(dá)標(biāo)排放。
因此呢,咱們將低溫等離子除臭+UV光解這兩種處理方法結(jié)合起來。將等離子安裝部署在光解設(shè)備的前段,離子安裝產(chǎn)生的O3與有機(jī)廢氣混合后,流經(jīng)紫外線燈管。紫外線燈管能進(jìn)一步地觸發(fā)O3的生成,同期在燈管254nm紫外線的催化功效下,O3與有機(jī)物的反應(yīng)效能大幅提高,從而取得理想的處理效果。因?yàn)?/span>等離子裝置較紫外燈管高得多的臭氧產(chǎn)生效能,使得設(shè)備的功耗隨之降低,節(jié)能效果明顯。
二.低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)?
1、有效除惡臭:能有效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等重點(diǎn)污染物,以及各樣惡臭味,脫臭效率達(dá)到99.9%以上,脫臭效果大大超過國(guó)家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。
2、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力,使惡臭氣體經(jīng)過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
3、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,區(qū)別惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每日24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定靠譜。
4、運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作,無噪音,無需專人管理和平常守護(hù),只需作定時(shí)檢測(cè),本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時(shí),僅耗電約0.1度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<30PA,可節(jié)約海量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
5、無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃~95℃之間,濕度在40%~98%之間均可正常工作。
6、設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于部署緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊要求,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000M3/H風(fēng)量。
7、優(yōu)秀材料制造:防火、防腐蝕性能高,性能穩(wěn)定,運(yùn)用壽命長(zhǎng)。
3、低溫等離子+UV 光氧催化設(shè)備的適用范圍?
答:1、治理油煙粉塵行業(yè),如大型火力發(fā)電廠、卷煙廠、紡織廠、印刷廠、造紙廠、鋼鐵廠、水泥廠等產(chǎn)生的二氧化硫、粉塵、油煙等。
2、治理廢氣、異味氣體行業(yè),如污水、垃圾處理廠、泵站、石化廠、化工廠、制藥廠、卷煙廠、香精廠 、屠宰場(chǎng)等行業(yè)產(chǎn)生的各類惡臭、異味氣體等。
3、空氣凈化方面,如醫(yī)院、餐飲、賓館、車船,航空候車室等公共場(chǎng)所、及辦公室、家庭、轎車、實(shí)驗(yàn)室等產(chǎn)生的甲醛、苯、氨、等有毒氣體及微生物、懸浮顆粒物等。
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